電化學(xué)拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到電解槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達(dá)到鏡面效果。




電解拋光技術(shù)原理


電解拋光原理現(xiàn)在薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，全球各界人士爭(zhēng)論很多，被大家公認(rèn)的主要有黏膜理論。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，以使工件粗糙表面逐漸被整平的過程。


電解拋光優(yōu)點(diǎn)


⑴內(nèi)外色澤一致，光澤持久，機(jī)械拋光無法拋到的凹處也能整平。


⑵生產(chǎn)效率高，成本低廉。


⑶增加工件表面抗腐蝕性。


電化學(xué)拋光所需條件及設(shè)備


（1）電源：電源可選用雙相220V，三相380V。


（2）整流器電解拋光對(duì)電源波形要求不是太嚴(yán)格，可選用可控硅整流器好高頻整流器。


①整流器空載電壓：0—20V②負(fù)載電壓（工作電壓）：8—10V


注：工作電壓低于6V，拋光速度慢，光亮度不足。整流器電流：根據(jù)客戶工件大小而定。


（3）電解槽及配套設(shè)施（陽極棒）


在槽上裝三根電極棒，中間為可移動(dòng)的陽極棒，接電源陽極（或正極），兩側(cè)為陰極棒，連接電源陰極（負(fù)極）。


（4）加熱設(shè)施及冷卻設(shè)備


①加熱可選用石英加熱管，鈦加熱管。②冷卻可選用盤管，盤管可加熱可冷卻。